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High-k Gate Dielectric Materials: Applications with Advanced Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors (MOSFETs) 1º edição
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High-k Gate Dielectric Materials: Applications with Advanced Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors (MOSFETs)
This volume explores and addresses the challenges of high-k gate dielectric materials, one of the major concerns in the evolving semiconductor industry and the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS).
246 pages, 18 Tables, black and white; 24 Illustrations, color; 79 Illustrations, black and white
| Mídia | Livros Hardcover Book (Livro com lombada e capa dura) |
| Lançado | 18 de dezembro de 2020 |
| ISBN13 | 9781771888431 |
| Editoras | Apple Academic Press Inc. |
| Páginas | 264 |
| Dimensões | 150 × 220 × 20 mm · 650 g |
| Idioma | Inglês |
| Editor | Baishya, Srimanta (National Institute of Technology, India) |
| Editor | Maity, Reshmi (Mizoram University, India) |
| Editor | Pratap Maity, Niladri (Mizoram University, India) |
