Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications - Pierson, Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired)) - Livros - William Andrew Publishing - 9780815514329 - 31 de dezembro de 1999
Caso a capa e o título não sejam correspondentes, considere o título como correto

Handbook of Chemical Vapor Deposition: Principles, Technology and Applications 2º edição

Preço
R$ 1.556,90
excluindo impostos

Item sob encomenda (no estoque do fornecedor)

Espera-se estar pronto para envio 28 de set - 8 de out
Receba avisos sobre novos lançamentos de Pierson, Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired))
Adicione à sua lista de desejos do iMusic

Ainda não avaliado

Também disponível como:

Offers an understanding of the advances in the Chemical Vapor Deposition (CVD) process. This book features data on both Plasma CVD and metallo-organic CVD processes. It also explains growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.


506 pages

Mídia Livros     Hardcover Book   (Livro com lombada e capa dura)
Lançado 31 de dezembro de 1999
ISBN13 9780815514329
Editoras William Andrew Publishing
Páginas 506
Dimensões 164 × 237 × 40 mm   ·   843 g
Idioma Inglês  

Mais por Pierson, Hugh O. (Sandia National Laboratories (retired))

Mostrar tudo

Mais da mesma editora